由弗吉尼亚大学建筑和加利福尼亚州艺术学院学院提供/数字工艺实验室
Andrew Kudless和Adam Marcus策划
新兴的设计和生产技术已经开辟了与建筑绘图传统实践的新方法。本次展览，由CCA数字工艺实验室组织的一系列展览，包括探索新技术对代码和绘图之间关系的影响：规则和约束如何通知我们文档，分析，代表的方式的影响，设计内置环境。
参与者：本杰明阿兰达＆Chris Lasch;Bradley Cantrell和Emma Mendel;肖恩峡谷;麦伦·戈恩;豪尔尔+ yoon;Marc Fornes / Theverymany;Ibañezkim;Iwamotoscitt建筑;斯蒂芬妮林;V. Mitch Mcewen; MILLIØNS (Zeina Koreitem & John May); Nicholas de Monchaux and Kathryn Moll; MOS (Michael Meredith & Hilary Sample); Catie Newell; Tsz Yan Ng; William O’Brien Jr.; Outpost Office; Heather Roberge; Jenny Sabin; SPORTS; John Szot; T+E+A+M; Nader Tehrani; Maria Yablonina
